40年ALD积淀助力超越摩尔，思锐智能完成第一阶段发展布局
沉积、光刻、刻蚀以及等离子注入是半导体和超越摩尔领域制造工艺的4大关键技术 。在新晶圆产线的投资建设中，约80%的投资用于购买设备，薄膜沉积设备更是占据其中约25%的比重 。业界主流的薄膜沉积工艺主要有原子层沉积(ALD)、物理式真空镀膜(PVD)和化学式真空镀膜(CVD)等 。其中ALD属于CVD的一种，是当下最先进的薄膜沉积技术 。调研机构GIR相关报告表明，全球原子层沉积(ALD)设备的市场规模在2021-2026年的年复合增长率预计达到25.1%，将从2019年的10.661亿美元增至2026年的26.129亿美元 。
推荐阅读
- Intel将于2021年发布首次使用大小核设计的AlderLake处理器
- 结婚40年是什么婚送什么礼物_结婚40周年是属于什么婚
- 袁天罡2040年预言 袁天罡2040预言
- 袁天罡2040年中国将发生什么 袁天罡2040年将发生什么
- 2040年会出现一个伟人 2040年会发生什么
- Intel 12代酷睿Alder Lake处理器谍照曝光
- 多亏了这个举动，他找回了被拐40年的儿子
- 马麝绝迹40年重返兰州林场意味着什么？含相关介绍
- 圣诞节吃什么？各国圣诞节吃的食物！
- 棉花存放40年还能用吗？