有机硅阴离子表面活性剂配方_阴离子表面活性剂配方

配方简介【有机硅阴离子表面活性剂配方】有机硅阴离子表面活性剂工艺反应条件温和，简单易行，收率较高，易于工业化生产，原料易得且价格低廉。它的创新之处在于利用D、不同的氨基硅烷偶联剂、MM，在催化剂（KOH）和促进剂（二甲基亚砜）作用下，在温和的条件下生成含有氨基的改性聚硅氧烷链，利用简便缩合反应将亲水基团如磺酸基、磷酸基引人改性聚硅氧烷链的侧链，从而形成阴离子表面活性剂。
应用领域有机硅阴离子表面活性剂是一种有机硅阴离子表面活性剂，可用于洗涤、乳化、渗透、润湿、扩散等各个方面，可用在日化、轻工、纺织等诸多领域。
配方详情制备方法氨烃基聚硅氧烷的合成：
将D（八甲基环四硅氧烷）、氨基硅烷偶联剂、MM（六甲基二硅氧烷）、催化剂（KOH）、促进剂（二甲基亚砜）在温度为80~150℃下反应1~15h，用等物质的量的无机酸和有机酸中和，得到氨烃基聚硅氧烷。投料摩尔比为：D：氨基硅烷偶联剂：MM:KOH：二甲基亚砜=1:(0.05~0.45):(0.02~0.35):(0.001~0.008):(0.0009~0.008) 。氨值范围为0.1~0.9mmol/g 。
氨烃基聚硅氧烷引人亲水基：

将环氧氯丙烷和亚硫酸氢钠在80~115℃下反应1~15h，生成γ氯代羟基丙磺酸盐。亚硫酸氢钠为50%水溶液。其摩尔比为：环氧氯丙烷：亚硫酸氢钠=1:1.5 。
将氨烃基聚硅氧烷和氯代P羟基丙磺酸盐在80~95℃下缩合反应1~15h，生成有机硅阴离子表面活性剂。所用的溶剂为嗯烷。其摩尔比为：y氯代母羟基丙磺酸盐：氨基硅烷偶联剂=1:1.2,最佳反应时间。

注意事项溶剂的用量为原料用量的10%~80%,较佳的用量为20%~40%反应温度为50~125℃,反应时间为4~8h 。温度较高，时间可以缩短。反应结東后，溶剂可以回收。