光刻机原理
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【光刻机原理】光刻机又称掩模对准曝光机 ， 曝光系统 ， 光刻系统 。其原理是在加工芯片的过程中 ， 光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段 ， 将光束透射过画着线路图的掩模 ， 经物镜补偿各种光学误差 ， 将线路图成比例缩小后映射到硅片上 ， 然后使用化学方法显影 ， 得到刻在硅片上的电路图 。
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序 。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光 。越复杂的芯片 ， 线路图的层数越多 ， 也需要更精密的曝光控制过程 。
光刻机是芯片制造的核心设备之一 ， 按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机 。
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