国产光刻机与荷兰ASML光刻机的具体差距有哪些?
当美国断供我们的芯片时，我们有华为，展讯，紫光，中芯微；当美国限制台积电不给我们代工芯片时，我们还有中芯国际可以顶一顶，虽然工艺落后了一点；当美国限制ASML的光刻机卖给我们时，我们束手手策 。光刻机，是我们芯片产业中最大的痛！那么，国产光刻机与荷兰ASML光刻机，究竟有多少差距？
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如果没有芯片，就制造不出手机；而如果没有光刻机，就制造不出芯片；说起光刻机，可能很多人都不知道是什么东西 。其实，光刻机就是制造芯片的机器设备，如果没有光刻机，就无法生产芯片 。
在工业领域中，最难做的事情并不是设计芯片，而是制造芯片 。关于芯片设计的研究，全球多不胜数，有ARM，x86等大量架构可用，即便重新研发一个芯片架构也不算太难，例如RISC开源架构的初始研发团队就只有几十个人 。而芯片制造就不同了，要把数十亿晶体管集成在一块几毫米的芯片中，需要集成全球几乎所有的高端设备技术以及相关人才 。
光刻机是芯片制造最为重要的设备之一，被称为现代光学工业之花，制造难度非常大，全世界只有少数几家公司能够制造，其售价高达7000万美金 。光刻机需要经历很多复杂的工艺过程，包括试验台、曝光台、激光器、光束校正器、能量控制器、光束形状设定等，每一道工序都必须精益求精，需要上百个零件支撑操作，可以说是极其精确 。
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目前，拥有世界上最先进光刻机的公司是荷兰的ASML（阿斯迈尔）公司，该公司垄断平版印刷机，占据全球90%的市场份额 。荷兰的ASML确实不是一般的企业，早在2007年以前，在光刻机领域，尼康、佳能就是当时的王者，ASML则是不入流的跟随者，ASML跟在尼康、佳能后面，徘徊了20年 。
随后，ASML抓住了台积电的“浸润式微影”技术，双方一拍即合，就这样，光刻机领域的霸主移位了，从此，尼康、佳能则是在光刻机市场一败涂地，ASML则成为了现在半导体制造设备的绝对龙头，尤其是在光刻机方面，更是无人敢与之争锋 。荷兰的ASML公司几乎垄断了全世界高端光刻机市场，而以中国目前的技术，只能制造中低端芯片，如果想要制造高端芯片，必须使用ASML的光刻机 。
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虽然在美国的打压下，华为已经具备了芯片的自研和开发能力，也已经提前买断了ARM的无限期使用权限，但所有人都看到，一旦台积电拒绝为华为代工，华为的高端芯片业务将中断 。ASML公司垄断了全世界的高端光刻机，中国一直以来都想掌握光刻机技术，但是上海微电子经过17年的努力，才造出90纳米的光刻机，这已经十分不容易了，这可是0的突破 。
那么，国产光刻机与荷兰ASML光刻机，究竟有多少差距？
光刻机包含13个分系统，3万个机械件，200多个传感器 。有顶级的镜头和光源，没极致的机械精度，也是白搭 。光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片 。两者需始终同步，误差在2纳米以下，要知道一根头发直径有6万纳米 。1毫米=1百万纳米，所以光刻机的精度要求几乎是普通机床的百万倍 。目前ASML现在又要进击了，目标：1纳米！
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而反观国内，由于起步较晚，上海微电子装备公司在起步晚、技术薄弱的情况，还是研发生产了90纳米制程的光刻机 。近期更是迎来了研发生产出22纳米的光刻机，代表国产光刻机的最高技术 。虽然和ASML在技术上还有很大的差距，但是只要行动起来，有一群甘心研发的人，总会有赶超的那一天 。你觉得呢？
【国产光刻机与荷兰ASML光刻机的具体差距有哪些?】
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